千葉大学 大学院工学研究科・工学部


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宮川 信一
ミヤガワ ノブカズ
Nobukazu Miyagawa
情報画像プロセス工学講座
情報表現プロセス工学教育研究分野
准教授
情報科学専攻
画像マテリアルコース
画像科学科
043-290-3462
miya@
(@マーク以下にfaculty.chiba-u.jpと入力してください。)
千葉大学理学部化学科1992,千葉大学大学院理学研究科1994修士(理学),千葉大学大学院自然化学研究科1997博士(理学)
1997工学部画像工学科助手, 2006工学部情報画像工学科助教授, 2007大学院融合科学研究科准教授
日本化学会,光化学協会,フォトポリマー懇話会,ヨウ素利用研究会,日本印刷学会, 日本写真学会
光化学,光機能材料
感光性樹脂材料に関する基礎研究及び応用。特に光開始剤系に関しての研究。例えば、超原子価ヨウ素化合物などを光酸発生剤などに応用したり、近赤外域での光開始系を扱っている。光反応機構などの解明から応用に至るまでの基礎・応用研究を行う。
“Vis-sensitive Photopolymer Containing Vinyl Ether Compound and Pyrromethene Dye” S. Noppakundilograt, S. Suzuki, N. Miyagawa, S. Takahara, and T. Yamaoka, Polym. Adv. Technol., 13(7), 527-533 (2002)
“Photo-alignment Material with Azobenzene-functionalized Polymer Linked in Film” H. Watanabe, N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka, Polym. Adv. Technol., 13(7), 558-565 (2002)
“Positive-Working DUV Resist Based on Terpene Derivatives as Cross-linker” C.-H. Park, J.-S. Lee, N. Miyagawa, S. Takahara, and T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Technol., 15(1), 141-144 (2002)
“Trivalent Iodine Compounds and Periodonium Salt as PAG” N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Technol., 15(3), 379-380 (2002)
“Negative-Working Photoresist of Methacrylate Polymers based on the Transesterification of the 2-Hydroxyethyl Group in the presence of an Acid” J.-S. Lee, T. Aoai, S. Kondo, N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem., 40(11), 1858-1867 (2002)
“Photoinduced Electron Transfer Reaction of 3H-Pyrazole Derivatives. Formation of Solvent Adduct by Specific Sensitizer” T. Karatsu, N. Shiochi, N. Miyagawa, and A. Kitamura, Bull. Chem. Soc. Jpn., 76(6), 1227-1231 (2003)
“Diphenyliodonium Salts with Diazoxide Group for a Photoacid Generator in Chemically Amplified Resist.” N. Tarumoto, N. Miyagawa, S. Takahara, T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Technol., 16(5), 697-700 (2003)
“Diphenyliodonium Salts with Environment-friendly Dye for a Photo-acid Generator in Chemically Amplified Resist” N. Tarumoto, N. Miyagawa, S. Takahara, and T. Yamaoka, Polym. J., 36(10), 866-869 (2004)
“Sensitization Mechnism of the Anthracene Derivatives/Photoacid Generator Photoinitiating System” J. Iwaki, S. Suzuki, C.-H. Park, N. Miyagawa, S. Takahara, and T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Technol., 17(1), 123-124 (2004)
“Diphenyliodonium salts with diazoxide group for a photo-acid generator” N. Tarumoto, N. Miyagawa, S. Takahara, and T. Yamaoka, J. Photopolym. Sci. Technol., 17(5), 719-725 (2004)
『ヨウ素ケミカルの新しい展開』“フォトポリマーにおけるヨウ素化合物の利用” 宮川信一、ファインケミカル、第29巻 (第20号)、67-75 (2000)
『光応用技術・材料総覧』“Jablonskiダイアグラム”(1章1節1項6)、“ニトロ基の光反応”(1章1節5項4)、“スルホン酸誘導体の光反応”(1章1節5項7) 宮川信一、(株)産業技術サービスセンター
『ヨウ素化合物の機能と応用』“ヨウ素とフォトポリマー” 宮川信一、シーエムシー出版
『光機能性有機・高分子材料』“高感度フォトポリマーの材料設計”(第6編第1章)宮川信一,シーエムシー出版
情報画像とマテリアル(学部)
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