千葉大学 大学院工学研究科・工学部


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高原 茂
タカハラ シゲル
Shigeru Takahara
融合科学研究科 教授
情報科学専攻
画像マテリアルコース
画像科学科
画像化学領域4
043-290-3461
043-290-3460
takahara@
(@マーク以下にfaculty.chiba-u.jpと入力してください。)
http://www.takaharalab.jp//
筑波大学第一学群自然学類 1980,筑波大学大学院博士課程化学研究科,1982 理学修士,1985 理学博士
1985-1995 三井東圧化学株式会社,1995 千葉大学講師工学部,1996 千葉大学助教授工学部,2007千葉大学准教授融合科学研究科 2015-現職
日本化学会,光化学協会,フォトポリマー懇話会,日本印刷学会,高分子学会,ヨウ素学会
光化学,光機能材料
「新しい反応機構と新しい光パターニング材料」を目指して,増感反応,光励起中間体・光生成物の解析や材料評価など物理有機化学的な手法を駆使し,高感度な光開始系や光による分子間力の変化などを使った「先進フォトリソグラフィー材料」を分子レベルから有機薄膜や表面,微粒子,会合体などの構造体を含めて設計・合成し,その応用を図る。特に,「光開始剤の多機能化」(Photo-X-generator, PXG)と,難溶性物質であるカーボンナノチューブなどを溶媒に可溶化し光で析出させる「光可溶化剤」(Photo-reactive solubilizer, PRS)に取り組む.また,PVA−ヨウ素錯体を用いた光による像形成も研究.
・Oxime type photoacid generators generators having adamantyl group, J. Photopolym. Sci. Technol., 28(1), 55-59 (2015).
・Formation and Dichroism of Poly(vinyl alcohol)-Iodine Complex in Photocurable Film,Polym. Adv. Technol., 26(4), 338–344 (2015).
・Application of Graphene to Photosensitive Diazo/PVA Resist, J. Photopolym. Sci. Technol., 25(4), 439-444 (2012).
・特許4631059号(2010/11/26)光酸発生材料,これを用いたフォトリソグラフィー材料,光パターニングまたは光リソグラフィー
・特許4487069号(2010/4/09)光パターニング材料および光パターン形成方法
・Direct Observation of Intermediates in Sensitization Reaction of Anthracenes and Oxime Type Photoacid Generator in Polymer Matrix, J. Photopolym. Sci. Technol., 22(3), 289-294 (2009).
・Mutifunctional photo acid generator for fluorescence imaging based on self-contained photoreaction, J. Photochem. Photobio. A:Chem., 200, 181-186 (2008).
・Sensitization Reaction of Oxime Type Photoacid Generator, J. Photopolym. Sci. Technol., 21(4), 499-504 (2008).
・On the cleavage process of the N-trifluoromethylsulfonyloxy-1,8-naphthalimide photoacid generator, Chem. Phys. Let., 443(4-6), 323-327 (2007).
・365nm用光ラジカル発生剤の開発,日本印刷学会誌,43(2), 26-32 (2006).
・The Participation of the Anion and Alkyl Substituent of Diaryliodonium salts in the Photo-Initiated Cationic Polymerization Reaction, Polym. Adv. Technol., 17(3), 156-162 (2006).
・Pyrromethene dye sensitized photopolymer - photochemical behavior in polymer matrix and application to photoresist for printed circuit board, Polym. Adv. Technol., 17(5), 348-353 (2006).
・Interaction mechanism in pyrromethene dye/photoacid generator photosensitive system for high-speed photopolymer, J. Photochem. Photobio. A:Chem., 181(1), 60-66 (2006).
・A Novel Negative-tone Photopolymer Based on Photo-Initiated Cationic Polymerization of Epoxides in Polymer Film,J. Photopolym. Sci. Technol., 18(6), 719-727(2005).
・Diphenyliodonium Salts with Pyranine Conk as an Environment-friendly Photo-acid Generator and Their Applications to Chemically Amplified Resists, Polymer J., 37(8), 545-549 (2005).
・Three-Component Photo Radical initiating System –The effect of 2-Mercaptobenzothiazole as a Co-initiator in Polymer Matrix-, Polymer, 46, 2238-2243 (2005).
・光化学の事典,朝倉書店 (2014)(分担)
・先端技術に広がる有機光化学−つながる光化学と光機能分子材料,開成出版株式会社 (2013)(単著)
・Basic and Applications of Photopolymerization Reactions, vol. 3, Jean-Pierre Fouassier and Xavior Allonas ed., Research Signpost(2010)(分担)
・光応用技術・材料事典,産業技術サービスセンター(2006)(分担)
・高分子工業化学,朝倉書店(2003)
・新しいレジスト材料とナノテクノロジー,シーエムシー(2002)(分担)
・改訂五版 分析化学便覧,日本分析化学会,丸善(2001)(分担)
【融合科学研究科】像物質科学,ナノイメージング特論(分担)【画像科学科】光反応化学,国際実習,画像記録システム(分担),イメージサイエンス総論(分担)【JPAC】Fundamentals of Imaging Science(分担)