千葉大学 大学院工学研究科・工学部


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藤浪 眞紀
フジナミ マサノリ
Masanori Fujinami
環境プロセス化学講座
計測化学教育研究分野
教授
共生応用化学専攻
共生応用化学コース
共生応用化学科
計測化学研究室
043-290-3503
fujinami@
(@マーク以下にfaculty.chiba-u.jpと入力してください。)
東京大学工学部工業化学科1982,東京大学大学院工学系研究科1987 工学博士
新日本製鐵株式会社,東京大学助教授 大学院新領域創成科学研究科,2004現職
日本化学会,日本分析化学会,日本物理学会,日本応用物理学会,日本表面科学会,日本鉄鋼協会,日本アイソトープ協会
分析化学
[1]陽電子をプローブとした原子空孔からナノメートルの空隙の高感度検出法の開発と空孔化学状態分析 [2]近接場光学顕微鏡と各種分光法・質量分析法を融合させた表面微小領域分析法の開発 [3]レーザー分光による液液界面分子挙動観察法の開発と分子挙動解明
[1]M. Fujinami, T. Miyagoe, T. Sawada, R. Suzuki, T. Ohdaira, T. Akahane, “Identification of vacancy-oxygen complexes in oxygen implanted silicon probed with slow positrons”, J. Appl. Phys. 95, 3404 (2004). [2]M. Fujinami, T. Miyagoe, T. Sawada, R. Suzuki, T. Ohdaira, T. Akahane, “Helium ion implantation-induced defects in silicon proved with variable-energy positrons", Phys. Rev. B, 68, 165332-1 (2003). [3]M. Fujinami, T. Miyagoe, T. Sawada, T. Akahane, “Improved depth profiling with slow positrons of ion implanted-induced damage in silicon”, J. Appl. Phys. 94, 4382 (2003). [4]M. Fujinami, T. Miyagoe, T. Sawada, R. Suzuki, T. Ohdaira, T. Akahane, “A positron beam study of vacancy-impurity complexes in inert gas ion-implanted silicon”, Phys. B 340-342, 724 (2003). [5]M. Fujinami, K. Toya, T. Sawada, “Development of photothermal near-field scanning optical microscope (PT-NSOM)”, Rev. Sci. Instrum. 74, 621-623 (2003).
[1]保母敏行編,“高純度化技術体系第一巻分析技術”(フジテクノシステム,1996)分担執筆
環境計測科学
分析化学実験
機器分析
大学院分析化学
表面計測化学
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